对比试样/块校准机构-对比试样/块校准-纳克无损公司

对比试样校准示值显现不稳定？

致使涂层测厚仪示值显现不稳定的要素主要是来自工件本身的资料和构造的特别性，比方工件本身是不是为导磁性资料，假如是导磁性资料咱们就要挑选磁性涂层测厚仪，假如工件为导电体，咱们就得挑选涡流涂层测厚仪。再者，被测件的外表粗糙度和附着物也是致使仪器示值显现不稳定的重要要素，测厚仪的探头对那些阻碍与覆盖层外表紧密触摸的附着物质较其灵敏。有必要确保探头与覆盖层外表直触摸摸。因而，对比试样/块校准方案，扫除此种毛病的关键即是：测量前铲除被测件触摸面的尘埃、细屑、油脂及腐蚀产物等附着物，但不要除去任何覆盖层物质。再有即是在进行体系调零时，所运用的基体外表也有必要是清洗、润滑的。如感受测量成果差错比较大时，请先用仪器装备的塑料校准片做一轮测验，如违背答应差错较远则有也许是仪器本身出了问题，需返厂家检修。在体系校按时没有挑选适宜的基体。基体平面为7mm，对比试样/块校准公司，小厚度为 0.2mm，低于此临界条件测量是不**的。

对比试样校准测量前的准备 

1. 对比试样的人工缺陷应使用酒精或C?H?O进行清洗，用滤纸擦干，对比试样/块校准，保持表面清洁，无锈蚀、金属屑、毛刺、污染物等影响测量的缺陷。  

2. 将对比试样人工缺陷平行放置在载物台上(必要时使用合适的工装予以固定)，调整试样，使人工槽长度或宽度方向与显微测量设备的X或Y轴平行。

3. 显微镜在合适的明场条件下，先用低放大倍数（10×或20×）找到人工缺陷位置，再换**放大倍数对试样聚焦，调整载物台及试样，使人工缺陷处于视场*。  调整测量设备，使测量面聚焦清晰，选择测量点位。

对比试样校准类型

1.涡流-当载有高频电流的探头线圈置于被测金属表面时，由于高频磁场的作用而使金属体内产生涡流，此涡流所产生的磁场又反作用于探头线圈，对比试样/块校准机构，使其阻抗发生变化，此变化量与探头线圈离金属表面的距离（即覆盖层的厚度）有关，因而根据探头线圈阻抗的变化可间接测量金属表面覆盖层的厚度。常用于测定铝材上的氧化膜或铝、铜表面上其他绝缘覆盖层的厚度。

2.同位素-利用物质厚度不同对辐射的吸收与散射不同的原理，可以测定薄钢板、薄铜板、薄铝板、硅钢片、合金片等金属材料及橡胶片，塑料膜，纸张等的厚度。常用的同位素射线有γ射线、β射线等。